P
1) ºñÀ²ÀÇ Àǹ̷Π»ç¿ë- ½Ã·á·Î¼ äÃëµÈ ÃÑ´ÜÀ§(unit)¿¡¼ Á¤»óÀûÀÎ °Í°ú ±¸º°µÉ¸¸ÇÑ Çö»óÀ» ÇϳªÀÌ»ó
°¡Áö°í ÀÖ´Â ´ÜÀ§ÀÇ ºñÀ².
2) ¹éºÐÀ²ÀÇ Àǹ̷Π»ç¿ë-½Ã·á·Î¼ äÃëµÈ ÃÑ´ÜÀ§(unit)¿¡¼ Á¤»óÀûÀÎ °Í°ú ±¸º°µÉ¸¸ÇÑ Çö»óÀ» ÇϳªÀÌ»ó
°¡Áö°í ÀÖ´Â ´ÜÀ§ÀÇ ¹éºÐÀ².
Çö»óÀÇ ¼ö´Â °°Àº À¯ÇüÀÇ Çö»óÀÌ ¿©·¯¹ø ³ªÅ¸³ª´õ¶óµµ ´ÜÁö Çѹø¸¸ ¼¼¾îÁ®¾ß ÇÑ´Ù.
P+ PÇü ¹ÝµµÃ¼¿¡ ÀÖ¾î¼ ¾ï¼ÁÅÍ ºÒ¼ø¹° ³óµµ°¡ ºñ±³Àû ³ôÀº ºÎºÐÀ» ³ªÅ¸³¾ ¶§ ¾²ÀδÙ.
P- PÇü ¹ÝµµÃ¼¿¡ ÀÖ¾î¼ ºÒ¼ø¹° ³óµµ°¡ ºñ±³Àû ³·Àº ºÎºÐÀ» ³ªÅ¸³¾ ¶§ ¾²ÀδÙ.
P- Channel
NÇü ±âÆÇ¿¡ PÇü È®»ê ¿µ¿ªÀ» Çü¼ºÇÑ Àý¿¬°ÔÀÌÆ®Çü FET¿¡ ÀÖ¾î¼ ¼Ò¿À½º,µå·¹ÀÎ °£¿¡ È帣´Â Àü·ùÀÇ
Åë·ÎÀΠä³ÎÀÌ Á¤°ø¿¡ ÀÇÇØ¼ Çü¼ºµÇ´Â °ÍÀº P- ChannelÀ̶ó°í ÇÑ´Ù.
P I/O(Parallel Input Output) Àåºñ¿Í Àåºñ»çÀÌ¿¡ º´·Ä·Î Á¤º¸¸¦ ÁÖ°í ¹Þ´Â Åë½Å Unit.
P & R(Placement & Routing)
Design AutomationÀÇ ÇÑ ºÐ¾ß·Î,chip layout½Ã ¹Ì¸® ÁغñµÈ Macro-Block ¹× standard-cellµéÀ»
ÀÚµ¿À¸·Î ¹èÄ¡ ¶Ç´Â ¹è¼±ÇÏ¿© ÃÖÀûÈÇÏ´Â °ÍÀ» ¸»ÇÑ´Ù.
P/A(Process Area.)
»ý»êÀåºñ¿¡¼ ¿þÀÌÆÛÀǰ¡°ø°øÁ¤ÀÌ ÇàÇØÁö´Â Area,1M-DRAMÀÇ °æ¿ì ¿ä±¸ ûÁ¤µµ´Â CLASS 1.
P-Type Silicon(Positive Type Silicon)
Major Carrie°¡ HoleÀÎ Si¸¦ ¸»ÇÑ´Ù.
3°¡ ¿ø¼ÒµéÀÌ Si¿¡ ÁÖÀÔµÇ¸é ¿©ºÐÀÇ HoleÀÌ Á¸ÀçÇÏ°Ô µÈ´Ù.
PA(Process Air)
Air Comp.¿¡¼ »ý»êµÈ ¾ÐÃà°ø±â¸¦ Dryer ¹× Filter¸¦ Åë°úÇÏ¿© Á¤Ã¼µÈ Ait·Î¼ »ý»êÀåºñ¿¡ »ç¿ëµÈ´Ù.
PABX(Private Automatic Branch Exchange) ÀÚµ¿½Ä ±¸³»±³È¯±â.
Pack Information 2 cassette ÀÌ»óÀ» ¹Ý¼Û½Ã AGV¿¡ ¹Ý¼Û ¼ø¼¿¡ ´ëÇÑ Á¤º¸¸¦ ÁØ´Ù.
Package Test Board
Package¸¦ TestÇϴµ¥ »ç¿ëµÇ´Â Board·Î¼ Test ÀåºñÀÇ Test Head¿¡ ÀåÂøµÈ´Ù.
Package TR, Diode, IC µîÀÇ ¿ë±â¸¦ ¸»ÇÔ.
Packaging Density ´ÜÀ§ üÀû¼Ó¿¡ ½ÇÀåµÇ´Â ºÎǰ ¶Ç´Â ¼ÒÀÚÀÇ ¼ö¸¦ ¸»ÇÑ´Ù.
Package Air Conditioner(package)
1°³ÀÇ Cashing³»¿¡ ³Ãµ¿±â¿Í °øÁ¶±â°¡ µ¿½Ã¿¡ ÀåÂøµÇ¾î »ç¿ë¸ñÀû¿¡ ÀûÇÕÇÑ ¿Â·½Àµµ¸¦ À¯Áö½ÃÄÑ ÁÖ´Â ¼³ºñ.
PAD ºí·ÏÀ» ã¾Æ¼ µ¥ÀÌÅͷΠä¿ì´Â °úÁ¤.
Page Fault
ÆäÀÌÁö Å×À̺í»ó¿¡ °¢ ÆäÀÌÁö¸¶´Ù ÆäÀÌÁö ÆúÆ®¶ó ºÒ¸®¿ì´Â 1ºñÆ®ÀÇ Á¦¾îºñÆ®°¡ ÀÖ¾î¼,ÀÌ ºñÆ®°¡ 1À̸é
±× ÆäÀÌÁö°¡ ÁÖ±â¾ï ÀåÄ¡¿¡ ¾ø´Â °ÍÀ» ³ªÅ¸³»¸ç,0À̸é ÁÖ±â¾ïÀåÄ¡¿¡ ÀÖ´Â °ÍÀ» ³ªÅ¸³½´Ù.
¸í·ÉÀ» ½ÇÇàÇÒ ¶§¸¶´Ù ¿¬»ê Á¦¾îÀåÄ¡´Â ÀÌ Å×À̺íÀ» ÂüÁ¶ÇÏ´Â µ¥ ¸¸ÀÏ ºñÆ®°¡ 1ÀÌ¸é ÆäÀÌÁö°¡ ÁÖ±â¾ï ÀåÄ¡¿¡
¾ø´Ù´Â °ÍÀ» ¶æÇÏ´Â ÀÎÅÍ·´Æ®°¡ ¹ß»ýÇÏ¸ç ¼öÆÛ¹ÙÀÌÀú´Â ÀÌ ÀÎÅÍ·´Æ®¸¦ ÇØ¼®ÇÏ¿© ÇÊ¿äÇÑÆäÀÌÁö¸¦ 2Â÷ ±â¾ïÀå
Ä¡·ÎºÎÅÍ ÁÖ±â¾ïÀåÄ¡·Î °¡Áö°í ¿Í¼ ÇÁ·Î±×·¥ÀÌ ¼ÓÇàµÈ´Ù.
µû¶ó¼, ÆäÀÌ¡ ¹æ½Ä¿¡ ÀÇÇϸé, ÁÖ±â¾ïÀåÄ¡¿¡ ÃÖ¼ÒÇÑ ÇÊ¿äÇÑ °ÍÀº ÇöÀç »ç¿ëÁßÀÎ ÆäÀÌÁö»ÓÀÌ´Ù.
¿©±â¼ Áß¿äÇÑ °ÍÀº ÀÌ ÆäÀÌÁöÆúÆ®ÀÇ Ã³¸®´Â »ç¿ëÀÚ°¡ ÀνÄÇÒ ¼ö ¾ø´Â »óÅ·ΠÀÌ·ç¾îÁø´Ù´Â Á¡ÀÌ´Ù.
PAL PROGRAMMABLE ARRAY LOGIC.
PAL PHASE ALTERNATION BY LINEÀÇ ¾àĪ.
Palladium Membrane ¼ö¼ÒºÐÀÚ¸¸ÀÌ Åë°úÇÒ ¼ö ÀÖµµ·Ï µÇ¾îÀÖ´Â Cell. Silver PalladiumÀ¸·Î µÇ¾î ÀÖ´Ù.
Palm Top PC ¼Õ ¹Ù´ÚÀ§¿¡ ¿Ã·Á³õ°í »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â PC.
Panel Plating(ÆÇ³Úµµ±Ý) ȦÀ» Æ÷ÇÔÇÏ´Â ±âÆÇÀÇ Àü¸éÀ» µµ±ÝÇÏ´Â °Í.
Parallel Port IBM-Compatible Parallel Printer¸¦ ¿¬°áÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ConnectorÀÌ´Ù.
Parameter ¸ð¼ö, ¸ðÁý´ÜÀÇ Æ¯¼ºÀ» ³ªÅ¸³»´Â »ó¼ö³ª °è¼ö·Î Ç¥ÁØÆíÂ÷, Æò±Õ,ȸ±Í°è¼ö µîÀÌ ÀÖ´Ù.
Parasitic Effect(±â»ýÈ¿°ú) ¼ÒÇüÈµÈ IC¿¡¼ ¼ÒÀÚ»çÀ̰¡ ±ÙÁ¢Çϱ⠶§¹®¿¡ »ý±â´Â ¹®Á¦.
Parity
¿¬±â Tape µîÀÇ ¿ÜºÎ±â±â¸¦ ÅëÇÏ¿© Data¸¦ ½á³Ö°Å³ª, CPU³»¿¡¼ Data¸¦ Àü¼ÛÇßÀ» ¶§¿¡ DataÀÇ ½Ç¼ö¸¦
°ËÃâÇÏ´Â ¹æ¹ýÀ» Parity Check (±â¿ì°Ë»ç)¶ó°í ÇÑ´Ù.
°Ë»çÀÇ ´ë»óÀÌ µÇ´Â N-BITÀÇ Data¿¡ 1BitÀÇParity bit¸¦ ºÎ°¡Çϰí, Àüü "1"ÀÇ °³¼ö°¡ ¿ì¼ö°¡ µÇµµ·Ï Parity
Bit¸¦ "1" ¶Ç´Â "0"À¸·Î ÇÑ´Ù. Data¸¦ read Çϰųª ¼ö½ÅÇßÀ» ¶§ "1" ÀÇ °³¼ö¸¦ Á¶»çÇÏ¿© ±×°ÍÀÌ ±â¼öÀ̸é
½Ç¼ö°¡ ÀÖ¾ú´ø°ÍÀÌ µÇ°í,±×°ÍÀÌ ¿ì¼öÀ̸éÁ¤»óÀûÀÎ Data¿´´ø °ÍÀÌ µÈ´Ù. "1"ÀÇ °³¼ö¸¦ ¿ì¼ö°³·Î ÇÒ °æ¿ì¸¦
¿ì¼ö parity¶ó°í Çϸç, "1"ÀÇ °³¼ö¸¦ ±â¼ö°³·Î ÇÒ °æ¿ì¸¦ ±â¼ö parity¶ó°í ÇÑ´Ù.
Parity Bit
ºÎÈ£ÈµÈ µ¥ÀÌÅÍ(word)ÀÇ ¿¡·¯ °ËÃâ¿¡ »ç¿ëÇÏ´Â Bit·Î, ½Ã½ºÅÛÀÇ Data ¾²±â/Àб⠵¿ÀÛÈÄ¿¡ "1" BitÀÇ ÃÑÇÕÀÌ
(ÆÐ¸®Æ¼ ºñÆ® Æ÷ÇÔ) Ç×»ó Ȧ¼ö ȤÀº ¦¼ö°¡ µÇ¾î¾ß ÇÔ.
Parity Checking
¸Þ¸ð¸®¿¡ WriteÇÒ ¶§¸¶´Ù 1·Î ÁöÁ¤µÈ ByteÀÇ Bit¸¦ ¼¼¾î Ȧ¼ö ¶Ç´Â ÆÐ¸®Å °Ë»ç¹æ½Ä¿¡ ±Ù°ÅÇÏ¿© ÆÐ¸®Æ¼ Ĩ¿¡
±â·ÏÇÑ´Ù. ±×¸®°í ÈÄ¿¡ ´Ù½Ã Write ÇÒ¶§ Çϵå¿þ¾î°¡ ÁöÁ¤µÈ Bit¸¦ °Ë»çÇÏ¿© MemoryÀÇ °áÇÔÀÌÀÖÀ» °æ¿ì
ÄÄÇ»ÅÍ¿¡ ¾Ë¸®°í ´Ù½Ã ºÎÆÃÇÒ ¶§°¡Áö ½Ã½ºÅÛÀ» ¸ØÃß°Ô ÇÏ´Â °Í.
Partition
°ÇÃ๰ ³»ºÎ Á¼Àº °ø°£À» ºÐ¸®,ÀÚÀ¯·ÎÀÌ À̵¿ÇÏ¸é ±¸È¹ÀÌ µÇ¾î Room°ú RoomÀ» ºÐ¸® »ç¿ëÇÏ´Â Á¦Ç°À¸·Î
´ÙÀ½°ú °°ÀÌ Á¾·ù°¡ ÀÖ´Ù.
°¡) ¹ã¶óÀÌÆ®-°¡Àå ¸¹ÀÌ »ç¿ëµÇ¸ç °¡°ÝÀÌ Àú·ÅÇϰí, ½Ã°øÀÌ ¿øÈ°ÇÏ¸ç ½º·¹ÀÌÆ® ÆÇ ÀçÁúÀ» »ç¿ëÇÏ¿©¸¸µë.
³ª) Áý¼ºº¸µå(¼®°í)-¹æÀ½ È¿°ú¸¦ °¡Áö¸ç ¼®°íÆÇÀ» ÀÌ¿ë.
´Ù) SGP-¾ãÀº öÆÇÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¿© ¸¸µç Á¦Ç°.
Pascell Gury LanguageÀÇ ÀÏÁ¾.
Passivation
ȸ·Î°¡ ¿ÜºÎÀÇ ¸ÕÁö, ¿Âµµ, ½Àµµ ¹× ±ÜÈûÀ¸·ÎºÎÅÍ Damage¸¦ ¹Þ´Â °ÍÀ» ¹æÁöÇϱâ À§Çؼ º¸È£ÃþÀ» ÀÔÇôÁÖ´Â
°øÁ¤À¸·Î ÁÖ·Î Plasma CVD Oxide Nitride¸¦ »ç¿ëÇϸç, PN Á¢ÇÕÇ¥¸éÀ» ½À±â³ª ºÒ¼ø¹°¿¡ ´ëÇØ¼ µÐ°¨ÇϰÔ,
Áï ºÒȰ¼ºÀ¸·Î ÇÏ´Â ¹æ¹ý. Wafer Ç¥¸é¿¡ ¿ÜºÎ·ÎºÎÅÍÀÇ ¿µÇâÀ» ¸·±â À§ÇÏ¿© »êȸ· ¹× Áúȸ·À» ÀÔÇôÁÖ´Â °Í.
Password ¾ÏÈ£.
Pattern
ºÎǰÀ̳ª µð¹ÙÀ̽ºÀÇ ¹è¼± ¹× ±×µéÀÇ Çüųª ¹èÄ¡ÀÇ Á¶ÇÕ¿¡ ÀÇÇØ¼ ¼Ò¿äÀÇ È¸·Î ±â´ÉÀ» ±¸Ã¼È½ÃŲ Æò¸éµµÇü
À» ¸»ÇÑ´Ù.
Pattern Plating(ȸ·Îµµ±Ý) ȸ·Î¸¦ ¼±ÅÃÀûÀ¸·Î µµ±Ý.
PBH(Planar Buried Heterostructure)
°¡Àå Åë»óÀûÀ¸·Î »ç¿ëµÇ´Â ¹ÝµµÃ¼ ·¹ÀÌÀú(LD)ÀÇ ±¸Á¶·Î¼ ¹ß±¤ºÎ¸¦ ½Ä°¢,¼ºÀå µîÀÇ °øÁ¤À» °ÅÃÄ ´Ù¸¥ epiÃþ
À¸·Î ¿ÏÀüÈ÷ ½Î¹ö¸®´Â ±¸Á¶À̸ç Ç¥¸éÀ» ÆòźȽÃŲ °ÍÀÌ Æ¯Â¡ÀÌ´Ù.
PC(Production Control) »ý»ê°ü¸®.
PC(Personal Computer).
PC(Particle Cleaning) ChipÀ§ÀÇ ¿À¿°¹°À» Á¦°ÅÇÏ´Â °øÁ¤.
P/C(Particle)
PCB(Àμâȸ·Î±âÆÇ Printed Circuit Board)
Àμ⠹輱ÆÇ.À§¿¡ ÀúÇ×,Äܵ§¼,ÄÚÀÏ,TR,IC,LSI,½ºÀ§Ä¡ µîÀÇ ºÎǰÀ» ÀåÄ¡ÇÏ°í ³³¶«ÇÏ¿© ȸ·Î±â´ÉÀ» ¿Ï¼º½ÃŲ °Í.
PCD(Plasma Coupled Device) CCDµî°ú ¸¶Âù°¡Áö·Î ÀÏÁ¾ÀÇ ÁýÀûÇü DeviceÀÌ´Ù.
PC-DOS IBM»çÀÇ PC-DOS´Â MS-DOSÀÇ OEM ¹öÁ¯ÀÌ´Ù.
PCI
OS/2¿Í Windows °°Àº Graphic Oriented Operation SystemÀ» PC¿¡¼ µ¿ÀÛ½Ãų ¶§ PCÀÇ I/OÀÇ
BottleneckÀ» ¾ø¾Ö±â À§ÇÏ¿© Intel¿¡¼ °³¹ßÇÑ PC Bus, º¸Åë SCSI, LAN, Graphic device¿¡ Àû¿ëÇÔ.
PCM(Pulse Coded Modulation)
°è¼öÇü Àü¼Û¹æ½ÄÀ¸·Î ¿¬¼ÓÀûÀÎ ½ÅÈ£(Analog Signal)¸¦ ÁÖ±âÀûÀ¸·Î 2Áø ±âÈ£·Î º¯ÈÇÏ¿© Àü¼ÛÇÏ´Â ¹æ¹ý.
PCM Data
RUN¿¡¼ ÃßÃâµÇ´Â DataÁß Test PatternÀ» ÃøÁ¤ÇÏ¿© °øÁ¤ÀÇ ºÒ·®¿©ºÎ¸¦ ºÐ¼®ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Data.
PCM Design
PCM ProgramÀÇ Error¸¦ ¼öÁ¤ÇÏ´Â ÇàÀ§·Î ÀÌ»ó Data ¹ß»ý½Ã ¼öµ¿ÃøÁ¤±â·Î ÃøÁ¤ÇÏ¿© °á°ú¸¦ ÃßÃâÇÑ ÈÄ
ÀÚµ¿ÃøÁ¤±â·Î ÃøÁ¤ÇÑ °á°ú¿Í ºñ±³ÇÏ¿© PCM ProgramÀÇ ÃøÁ¤Á¶°ÇÀ» Á¶Á¤ÇÏ´Â ÇàÀ§.
PCM Program
°³¹ßÁ¦Ç°ÀÇ ¾ç, ºÒ·®À» ÆÇº°Çϱâ À§ÇÏ¿© Wafer»óÀÇ Test PatternÀ» ÀÚµ¿ÃøÁ¤±â·Î ÃøÁ¤ÇÒ ¼ö ÀÖµµ·Ï Á¦ÀÛµÈ
Computer ProgramÀ¸·Î¼ Test Program°ú Test Data¸¦ ÀμâÇÏ´Â Print ProgramÀ¸·Î ±¸¼ºµÈ´Ù.
PCM Test Process Control MonitorÇÏ´Â ½ÃÇè¼ÒÀÚ,°øÁ¤»óÀÇ Æ¯¼ºÀ» ¾Ë¾Æº¸±âÀ§ÇØ ½Ç½ÃÇÏ´Â °Ë»çÇàÀ§.
PCMCIA(PC Memory Card International Association) ¹Ì±¹ÀÇ ¸Þ¸ð¸® Ä«µå °ü·Ã Ç¥ÁØÈ ´Üü.
PCN(Personal Communications Networks)
PCT Patent Cooperation TreatyÀÇ ¾à¾î
ƯÇã ¶Ç´Â ½Ç¿ë½Å¾ÈÀÇ ±¹Á¦Ãâ¿øÀýÂ÷¸¦ µ¿ÀÏÇÏ°í °£¼ÒÈÇϱâ À§ÇØ 1970³â ¿ö½ÌÅæ¿¡¼ ü°áµÇ°í 1978³â
¹ßÈ¿µÈ ´Ù±¹°¡°£ °è¾àÀÌ´Ù.
PCT(Pressure Cooker Test)
"Áõ±â¾Ð ½ÃÇè"À¸·Î¼ 15PSI, ½Àµµ=100%,¿Âµµ=121¡É ¡¾2¡ÉÀÇ Pressure Cooker ³»¿¡¼ ÁøÇàÇÏ´Â ³»½À¼º
½ÃÇèÀ» ¸»ÇÔ.
PCW(Process Cooling Water)
°øÁ¤¿ë ³Ã°¢¼ö·Î¼ »ý»êÀåºñÀÇ ³Ã°¢À» À§ÇÏ¿© »ç¿ëµÈ´Ù.
Àú¾Ð ¹× °í¾Ð¿ëÀÌ ÀÖ´Ù.
PCX ÆÄÀÏ Z SOFT»çÀÇ PC PAINTBERUSH¿¡ ÀÇÇØ »ý¼ºµÈ È»ó¿ë ÆÄÀÏÇüÅÂ.
PD(Power Dissipation) Àü·Â¼Õ½Ç.
PD(Photo Detector)
¼ö±¤¼ÒÀڷμ ÇØ´ç¿µ¿ªÀÇ ÆÄÀåÀÇ ºûÀ» ¹Þ¾Æµé¿© Àü±âÀûÀÎ ½ÅÈ£·Î ¹Ù²Ù¾î ÁÖ´Â ¼ÒÀÚÀÌ¸ç µ¿ÀÛ¿ø¸®¿¡ µû¶ó
PIN-PD, APD µîÀÌ ÀÖ´Ù.
PD PIN(Presence Detect PIN)
4Byte ÀÌ»óÀÇ DRAM SIMM¿¡ ºÎÂøµÈ 4°³ÀÇ PINÀ¸·Î Memory Size ¹× Speed¸¦ Ç¥½ÃÇϴµ¥ Ȱ¿ëµÊ.
PDA(Percent Defect Allowance)
Burn In ÀÌÈÄ Post Test½Ã Burn In Áß Device DegradationÀ¸·Î ÀÎÇÑ Hard¼º FailÀÇ ¹ß»ý Çã¿ë
Ä¡·Î¼ ÀÏÁ¤ ºñÀ²À» ³ÑÀ¸¸é Ãß°¡ÀÇ Burn InÀ» ½Ç½ÃÇÏ°Ô µÈ´Ù.
PDP(Plasma Display Panel) ´ëȸéÈ¿¡ ¿ëÀÌÇÑ Àڹ߱¤ ¼ÒÀÚ·Î °³¹ß ½Ç¿ëÈ ÃßÁø´Ü°èÀÇ ¼ÒÀÚÀÓ.
PDIP(Plastic Dual In-Line Package)
PlasticÀ¸·Î ¸¸µç Package TypeÀÇ ÇÑ Á¾·ùÀ̸ç Package ¾çÂÊ¿¡ Lead°¡ ±æ°Ô ³ª¿Í ÀÖ¾î Socket¿¡ ³¢¿ö
½±°Ô »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù´Â ÀåÁ¡ÀÌ ÀÖÀ¸³ª ¸¹Àº ¸éÀûÀ» Â÷ÁöÇÏ°í ½À±â µî¿¡ ¾àÇÏ´Ù´Â ´ÜÁ¡ÀÌ ÀÖ´Ù.
PE(Product Engineer) °øÁ¤±â»ç.ƯÁ¤ Á¦Ç°¿¡ ´ëÇÑ Yield ¹× Ư¼º TraceÇÏ´Â Engineer.
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Depostion)
°ÇÑ Àü¾ÐÀ¸·Î ¾ß±âµÈ plasma¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© ¹ÝÀÀ¹°ÁúÀ» Ȱ¼ºÈ½ÃÄѼ ±â»óÀ¸·Î ÁõÂø½ÃŰ´Â ¹æ¹ý ¶Ç´Â ÀåÄ¡
TFT-LCD¿¡¼´Â insulatorÃþ°ú a-Si ÁõÂø¿¡ »ç¿ëÇÑ´Ù.
¹ÝÀÀ Chamber°¡ Plasma »óÅÂÇÏ¿¡¼ GASµéÀÇ ÈÇÐÀû ¹ÝÀÀ¿¡ ÀÇÇØ filmÀ» ÁõÂøÇÏ´Â ¹æ¹ýÀ¸·Î Plasma¿¡
ÀÇÇØ reactantµéÀÌ energy¸¦ ¾òÀ½À¸·Î ³·Àº ¿Âµµ¿¡¼ ÁõÂøÀÌ °¡´ÉÇÏ´Ù.
P/E Cycle(Programming/Erase Cycle EEPROM).
Peel Strength Ðñî§(Base Material)·Î ºÙ¾î ȸ·Î³ª µ¿¹ÚÀ» ¶¼¾î³»´Âµ¥ ÇÊ¿äÇÑ ´ÜÀ§Æø ´çÀÇ Èû.
Pellet ºÒ¼ø¹° ÁÖÀÔµîÀÇ °øÁ¤ÀÌ ¿Ï¼ºµÈ Wafer¿¡ µé¾î ÀÖ´Â °¢°¢ÀÇ ¼ÒÀÚ¸¦ Àß¶ó³½ °³°³ÀÇ ¼ÒÀÚ.
Pelletize Compound¸¦ »ç¿ëÇϱâ ÁÁ°Ô ÀÛÀº µ¢¾î¸®·Î ¸¸µå´Â ÀÛ¾÷.
Pellicle
Particle ¶Ç´Â ¿ÜºÎÀûÀÎ defect·ÎºÎÅÍ °¨±¤¿øÆÇ(MASK)À» º¸È£ÇÒ ¸ñÀûÀ¸·Î °¨±¤¿øÆÇÀÇ °¡ÀåÀÚ¸® ºÎºÐÀÇ
Çü»óÀÌ ¾ø´Â °÷¿¡ ºÎÂøÇÏ´Â ¹°Áú.
PEM(Production Equipment Maintenance) »ý»ê Àåºñ Á¤ºñ.
Performance Board
Test System ¶Ç´Â ¼ÒÀڷκÎÅÍ ³ª¿À´Â Àü±âÀû ½ÅÈ£¿¡ ´ëÇÏ¿©Test System°ú Probe »çÀ̸¦ ¿¬°á½ÃÄÑ ÁÖ±â
À§ÇØ PCB¿¡ Coaxial Cable·Î WiringÇÑ Interface Board.
Peripheral LSI
Test System¿¡ CPU¸¦ Áö¿øÇÏ´Â LSI±º. microcomputer systemÀ» ¼³°èÇÏ´Â °æ¿ì ÇÊ¿ä·Î ÇÏ´Â ±â´ÉÀ» CPU
ÇÑ °³¿¡ ÁýÀû½Ã۸é 󸮼ӵµ°¡ ÀúÇϵǰí software ¼³°è·®ÀÌ Áõ´ëµÇ´Â ¹®Á¦Á¡ÀÌ ¹ß»ýÇϰԵǹǷΠ°¢ CPU¿¡
ÁÖº¯ LSI¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© ½Ã½ºÅÛÀ» ¼³°èÇÏ´Â °Í.
Permenant Mask(¿µ±¸¸¶½ºÅ©) ÀÛ¾÷ÈÄ¿¡ Á¦°ÅµÇÁö ¾Ê´Â À×Å©.
PERT(Program Evaluation and Review Technique)
¾î¶² ¹æ¹ýÀ¸·Î ¾î¶² °øÁ¤À» ÁøÇà½Ã۸é ÀοøÀ̳ª ÀÚÀçÀÇ ³¶ºñ¾øÀÌ ¹èÄ¡ÇÒ ¼ö ÀÖ°í °ø±â¸¦ ´ÜÃàÇÒ ¼ö Àִ°¡¸¦
ÇØ¸íÇÏ´Â °øÁ¤°ü¸®¼ö¹ý.
PF(Picofarad) 1012(F).
PG(Pattern Generator)
CAD System¿¡ ÀÇÇØ DigitizingµÈ ¼³°è Á¤º¸¸¦ MaskÀ§¿¡ Pattern ¸ð¾çÀ¸·Î Çü»óȽÃŰ´Â ±â°è·Î Reticle
Á¦ÀÛ¿¡ »ç¿ë.
PG(Pattern Generation)
ȸ·Î¼³°è PatternÀÌ LayoutµÈ »óŸ¦ Reticle/Mask Á¦ÀÛÀåºñ°¡ »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Data·Î ¹Ù²Ù¾î ÁÖ´Â ÀÛ¾÷.
¼³°èµÈ Data¸¦ »ý»êÇöÀå¿¡ ÅõÀÔÇϱâ À§ÇÑ MASK¸¦ »ý¼ºÇÏ´Â ÀÛ¾÷.
PG Tape
¼³°è¿Ï·áµÈ Layout Data¸¦ Reticle/Mask Á¦ÀÛÀåºñÀÎ E-Beam Machine¿¡ ¸Â´Â FormatÀ¸·Î º¯°æÇÑ
Data¸¦ PG Data¶ó Çϸç ÀÌ Data¸¦ º¸°üÇÑ Tape¸¦ ¸»ÇÑ´Ù.
PGA(Pin Gird Array) Lead°¡ PackageÀÇ ¾Æ·¡ÂÊ¿¡ ±æ°Ô ³ª¿ÜÀÖ´Â Á¤»ç°¢ÇüÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Á¦Ç°.
PGA(Professional Graphics Adapter)
IBMÀÇ Àü¹® ±×·¡ÇÈ ¾î´ðÅÍ·Î ÁÖ·Î CAD ÀÀ¿ë ÇÁ·Î±×·¥À¸·Î »ç¿ëµÇ´Â °í±ÞÀÇ Áö´ÉÀûÀÎ ±×·¡ÇÈ
º¸µå¿´À¸³ª ¸î°¡Áö ¿äÀÎµé ¶§¹®¿¡ PGA´Â ÀαâÀִ ǥÁØÀÌ µÇÁö ¸øÇß´Ù.
PH(Par H)
¼ö¼Ò Ion Mole ³óµµÀÇ ¿ª¼öÀÇ »ó¿ë Log °ªÀ» ÃëÇÏ¿© ¼ö¿ë¾×ÀÇ PH°¡ 7ÀÎ ¼ö¿ë¾×Àº Áß¼º, PH°¡ 7ÀÌÇÏÀÎ ¼ö¿ë¾×Àº
»ê¼º, PH°¡ 7ÀÌ»óÀÎ ¼ö¿ë¾×Àº ¾ËÄ«¸®¼ºÀ» ³ªÅ¸³¿.
Phase(À§»ó) ¹Ì¸® ±ÔÁ¤ÇÑ À§Ä¡¿¡¼ º» ¹ÝÆøÆÄÇüÀÇ 1»çÀÌŬÀ» ±âÁØÀ¸·Î ÇÑ »ó´ë À§Ä¡.
Photo (»çÁø) Wafer¿¡ PatternÀ» Çü¼ºÇÏ´Â °øÁ¤.
Photo Conductive Effect(±¤ÀüÈ¿°ú)
¹ÝµµÃ¼¿¡ ºûÀ» Á¶»çÇÔÀ¸·Î¼ ÀϾ´Â Àü±â ÀüµµµµÀÇ º¯È³ª ±âÀü·ÂÀÇ ¹ß»ýÇö»óÀ» ÃÑĪÇÏ¿©
±¤ÀüÈ¿°ú¶ó°í ÇÑ´Ù.
Photo Coupler
Àü±â,ºû º¯È¯¼ÒÀÚ(¹ß°ø¼ÒÀÚ)¿Í ºû Àü±â º¯È¯¼ÒÀÚ(¼ö±¤¼ÒÀÚ)¸¦ Çϳª·Î Á¶ÇÕÇÑ °ÍÀÌ´Ù.
Photo Diode
¹ÝµµÃ¼ÀÇ PN Á¢ÇÕ¿¡ ¿ª ¹ÙÀ̾¸¦ °¡Çϰí Á¢Çո鿡 ºûÀ» Á¶»çÇϸé PN Á¢ÇÕ¿¡ È帣°í ÀÖ´Â ¿ª¹æÇâ Àü·ù°¡
Áõ°¡ÇÏ´Â Çö»óÀ» ÀÌ¿ëÇÑ °ÍÀÌ´Ù.
Photo Etching(»çÁø ½Ä°¢¹ý)
¿¡ÄªÀç·á¿¡ ´ëÇØ¼ ³»¼ºÀÌ ÀÖ´Â Àç·á,Áï Photo Resist¸¦ ¸¶½ºÅ©·Î »ç¿ëÇÏ¿© ¹ÝµµÃ¼ÀÇ »êÈÇǸ·,±Ý¼Ó µîÀ»
ºÎºÐÀûÀ¸·Î Etching ÇÏ´Â ¹æ¹ýÀÌ´Ù.
Photon
ÀüÀÚÀåÀ» ¾çÀÚÈÇÑ °ÍÀ» Photon À̶ó°í ÇÑ´Ù.
Photo-Resist
»çÁø ½Ä°¢ °øÁ¤À» À§ÇÏ¿© ¿ëµÇ´Â Á¡¾×¼º ¾×ü¸¦ ¸»Çϸç,ºûÀÌ ´ê´Â À¯¹«¿¡ µû¶ó »óŰ¡ º¯ÇÏ´Â °¨±¤¹°·Î¼
Positive¿Í Negative 2 Á¾·ù°¡ ÀÖÀ½.
Photo-Resist or Resist °¨±¤¹°Áú·Î Positive¿Í NegativeÀÇ µÎ Á¾·ù°¡ ÀÖÀ½.
Photo Volatic Effect(±¤±âÀü·Â È¿°ú)
¹ÝµµÃ¼ÀÇ PNÁ¢ÇÕ¿¡ ºûÀ» Á¶»çÇßÀ» ¶§ PNÁ¢ÇÕÀÇ ¾ç´Ü¿¡ Àü¾ÐÀÌ ³ªÅ¸³ª´Â Çö»óÀ» ±¤±âÀü·ÂÀ̶ó°í ÇÑ´Ù.
PI(Process Integration)
¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ¸¦ ¸¸µé±â À§ÇØ Photo,Etch,Diffusion,Thin Film,Ion Implantation°ú °°Àº ´ÜÀ§°øÁ¤ÀÌ ÇÊ¿äÇѵ¥,
°¢ °øÁ¤À» ¼ÒÀÚÀÇ Æ¯¼º¿¡ ¸Â°Ô Process Flow¸¦ ¼³°èÇϰí Á¦¾îÇÏ´Â ±â´É.Process Architecture¶ó°íµµ ÇÔ.
Pick & Placement Screen PrintingµÈ PCBÀ§¿¡ Component¸¦ ÀåÂø ÇÏ´Â °øÁ¤.
Pick-Up Fork 25, 50 SlotÂ¥¸®ÀÇ Boat¸¦ Loading, UnloadingÇÏ´Â Ä¡°ø±¸.
Piezo Electric Effect(¾ÐÀüÈ¿°ú)
¾î¶² Á¾·ùÀÇ °áÁ¤¿¡ ¾î¶² ¹æÇâ¿¡¼ ¾Ð·ÂÀ» °¡Çϸé Á¤ÇØÁø ¹æÇâÀ¸·Î À¯ÀüºÐ±ØÀÌ ³ªÅ¸³ª´Â Çö»ó
(Áï, ÇÑÂÊ ³¡¿¡ +ÀÇ ÀüÇϰ¡, ±×¸®°í ´Ù¸¥ÂÊ ³¡¿¡ -ÀÇ ÀüÇϰ¡ ³ªÅ¸³ª´Â Çö»ó)À» ¸»ÇÑ´Ù.
Piggy Black
Program ROMÀ» flexibleÇÏ°Ô »ç¿ëÇϱâ À§ÇÏ¿© ChipÀÚü¿¡ ROM ¼ÒÄÏÀ» °¡Áö°í ÀÖ´Â Package ¹æ¹ý.
Pigment Types
¹é»ö±¤ÀÌ ¹Ì¼¼ÇÑ ¾È·á ÀÔÀÚ¸¦ ºÐ»çÇÏ¿© ¸¸µé¾îÁø Âø»öµÈ ÃþÀ» Åë°úÇϵµ·Ï ÇÏ¿©, ºû¿¡ »ö»óÀ» ÁÖ´Â ¹æ¹ý
ȤÀº ¾È·Î ÀÔÀÚ¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© ºûÀ» Âø»öÇÏ´Â ¹æ¹ý.
Pin Density(Æí¹Ðµµ) ´ÜÀ§¸éÀû´çÀÇ ±âÆÇ»óÀÇ ÆÇ¼ö.
Pin Hole
1) »çÁø °¨±¤¾× ¼Ó¿¡ ÀÔÀÚ°¡ Á¸ÀçÇϰųª Mask³ª WFÇ¥¸é¿¡ °áÇÔÀÌ ÀÖÀ» ¶§ »çÁø ÀÛ¾÷ÈÄ Çü¼ºµÈ °¨±¤¾×
Pattern¿¡ »ý±â´Â ÀÛÀº ±¸¸Û.
2) È®»ê·Î¿¡¼ ¼ºÀå½ÃŲ »êȸ·¿¡ »ý±ä ÀÛÀº ±¸¸í.
PINCH-OFF Voltage
Àü°èÈ¿°ú Tr(MOSFET)¿¡ ÀÖ¾î¼ ChannelÀÌ ´ÝÇôÁ³À»¶§ Áï gmÀÌ ZERO·Î µÈ »óÅÂÀÇ GATE Àü¾ÐÀ»
PINCH-OFF Àü¾Ð Vp¶ó°í ÇÑ´Ù.
Pit µ¿¹ÚÀ» ¿ÏÀüÈ÷ °üÅëÇÏÁö´Â ¾ÊÀ¸³ª Ç¥¸é¿¡ »ý±â´Â ÀÛÀº ±¸¸Û. PIT Wafer Ç¥¸éÀÇ ¹Ì¼¼ÇÑ µ¹Ãâ ºÒ·®.
PIX
Assembly½Ã module compoundÀÇ stress¿¡ ±âÀÎµÈ ±úÁü
(crack)À» ¹æÁöÇϱâ À§ÇØ buffer material·Î¼ pix(polydimide)¸¦ coatingÇÑ´Ù.
Pixel(ȼÒ)
µÎ ´Ü¾î "picture element"ÀÇ ÇÕ¼º¾î·Î ȸéÀ» ±¸¼ºÇÏ´Â R,G,BÀÇ 3 µ¾Æ®¸¦ 1ȼҶó Çϸç Á¤¼¼µµ°¡ ³ô´Ù°í
Çϸé ȼҼö°¡ ¸¹À½À» ÀǹÌÇÑ´Ù.
Pixel Defect
LCD ȼҴÜÀ§ÀÇ Ç¥½Ã°áÇÔÀ¸·Î ´Éµ¿ ¸ÅÆ®¸®½º ¹æ½Ä¿¡ ÀüÇüÀûÀ¸·Î ³ªÅ¸³ª´Ù. ´ëÇ¥ÀûÀÎ °ÍÀ¸·Î´Â ÈæÇ¥½ÃÀÇ
°æ¿ì ±¤ÀÌ Åõ°úµÈ ¹é°áÇÔÀ̳ª ¹éÇ¥½ÃÀÇ °æ¿ì ±¤À» Åõ°úÇÏÁö ¾ÊÀº Èæ°áÇÔÀÌ ÀÖ´Ù.
¿øÀÎÀº ´Éµ¿ ¼ÒÀÚÀÇ µ¿ÀÛ ºÒ·®¿¡ ÀÖ´Ù.
PL/I ÇÁ·Î±×·¡¹Ö ¾ð¾î.
PLA(Programmable Logic Array)
ÀϹÝÀûÀÎ ³í¸® ȸ·ÎÀÇ Á¶ÇÕÀ¸·Î,±â´Éº°·Î ¿¬°áÇϰųª Program¿¡ ÀÇÇÏ¿© Á¶ÀÛÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ³í¸®Á¶ÀÛ È¸·Î.
Planner¿ë¹ý
±â¾ï¼ÒÀÚ¿¡¼ Äܵ§¼¸¦ ¸¸µå´Â FAB °øÁ¤±â¼ú ÁßÀÇ Çϳª·Î Silicon±âÆÇ°ú ÆòÇàÇÏ°Ô Äܵ§¼°¡ Çü¼ºµÇ´Â ±â¼úÀÓ.
Planar Transistor Silicon±âÆÇ À§¿¡ Æ¢¾î³ª¿À´Â °ÍÀÌ ¾øÀÌ ÆòÆòÇÑ ÇüÅ·Π¸¸µç Transistor.
Planarization FAB °øÁ¤¿¡¼ ¸¸µç ¹ÝµµÃ¼ Silicon ChipÀÇ ¼öÁ÷±¸Á¶°¡ ÆòÆòÇÑ »óÅÂÁ¤µµ¸¦ ¸»ÇÔ.
Plant Working Standard °øÀå¿ë ±âÁرâ, Á¤¹Ð °èÃø±â±â±Þ ÀÌÇÏÀÇ ±³Á¤ ¹× °ËÁõ¿¡ »ç¿ëµÇ´Â ±â±â.
Plasma °ÅÀǰ°Àº ¼öÀÇ ¾çÀ̿°ú ÀüÀÚ¸¦ ¶í °¡½º.
Plasma Display
°¡½º ¹æÀü¿¡ ÀÇÇØ ¹®ÀÚ ¶Ç´Â ¼ýÀÚ¸¦ Ç¥½ÃÇÏ´Â °ÍÀ¸·Î Àý¿¬¹°À» ÅëÇØ ±Û·Î¿ì ¹æÀüÀ» ÀÏÀ¸Å°´Â ¿ÜºÎ Àü±ØÇü
Ç¥½Ã ¹æÀüÆÇÀÌ´Ù.
Plasma Etching
°íÁ֯İ¡ Àΰ¡µÇ ¹ÝÀÀ½Ç ³»ºÎ·Î Gas¸¦ ÁÖÀÔÇÏ¸é ³ôÀº Energy»óÅ·ΠȰ¼ºÈ µÇ¾î ÀÌ¿Â, ÀüÀÚ, ¿øÀÚ,
·¡µðÄ®(Radical)µîÀÌ »ý¼ºµÇ´Âµ¥,À̰ÍÀ» »ç¿ëÇÏ¿© ½Ä°¢À» ÇÏ´Â ÀϹÝÀûÀÎ °Ç½Ä ½Ä°¢.Á¼Àº Àǹ̷δÂ
ÈÇÐÀûÀÎ ¹ÝÀÀ¿¡ ÀÇÇÑ °Ç½Ä ½Ä°¢ ¹æ¹ý.
Plate Àý´ÜÈÄ ºÐ¸°µÈ ChipÀ» ¼±º°ÇÏ¿©(¾çǰ) ´ã´Â °øÁ¤.
Platng µµ±Ý.
PLC(Product Life Cycle)
Á¦Ç°¼ö¸íÁÖ±â.½ÅÁ¦Ç°À̳ª °³·®Á¦Ç°À̽ÃÀå¿¡ ¼Ò°³µÈÀÌÈÄ ½Ã°£ÀÇ °æ°ú¿¡ µû¸¥ ÆÇ¸Å¾×À̳ª ÀÌÀÍÀÇ º¯È ÃßÀ̸¦
³ªÅ¸³½ °³³ä.µµÀÔ±â,¼ºÀå±â,¼º¼÷±â,¼èÅð±â·Î ±¸ºÐÇÏ¿© °¢ ½Ã±â¸¶´Ù ÀûÇÕÇÑ ¸¶Äɹͽº¸¦ ÇÊ¿ä·Î ÇÑ´Ù.
PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier)
PackageÀÇ ÀÏÁ¾À¸·Î lead°¡ 4¹æÇâÀ¸·Î³ Ç¥¸é½ÇÀåÇü ¹ÝµµÃ¼ Á¦Ç°.
PLD(Prodgramable LOGIC Device)
ÇÁ·Î±×·¥ÀÌ °¡´ÉÇÑ ¾îµå·¹½º¸¦ °¡Áø ROMÀ¸·Î,½Ã½ºÅÛ ¼³°è ¼ö´ÜÀ¸·Î¼ °³¹ßµÈ °ÍÀÌ´Ù.
PLD¿Í ROM°úÀÇ Â÷ÀÌ´Â ROMÀº ÀÔ·ÂÀÇ ¸ðµç Á¶ÇÕ¿¡ ´ëÇØ¼ Ãâ·ÂÀÌ ³ª¿ÀÁö¸¸, PLD´Â ÀÔ·ÂÀÇ ¸î°³ Á¶ÇÕÀº
¹«È¿À̰í,¶Ç Á¶ÇÕÀÇ ¸î°³ ±×·ìÀº ±¸º°ÇÒ ¼ö ¾ø´Ù´Â Á¡ÀÌ´Ù.
Plenum °ø±âÀÇ À¯ÅëÀ» À§ÇÑ °ø°£.
PLL(Phase Locked Loop)
Àü¾Ð¿¡ ÀÇÇØ Á¶Á¤µÇ´Â ¹ßÁø Á֯ļö°¡ ±âÁØ Á֯ļö¿Í ÀÏÄ¡ÇÒ ¶§±îÁö Á֯ļöÀÇ À§»óÂ÷¿¡ ºñ·ÊÇÏ´Â Àü¾ÐÀ»
¹ß»ý½ÃÄÑ ¹ßÁø Á֯ļö¸¦ ±âÁØ Á֯ļö¿¡ ¸ÂÃߴ ȸ·Î ¹æ½Ä.
Plot DISK³»ÀÇ DataBase¸¦ ±×¸²À¸·Î »Ì¾Æ ³»´Â °Í.
°¡) plot-µµ¸é, Â÷Æ®,µµÇ¥ µîÀ» ÀÛµµÇÏ´Â °Í.
³ª) plotter-µµ¸é ÀÛ¼º(drawing),Â÷Æ® ÀÛ¼º, µµÇ¥ ÀÛ¼º(diagram)¹× À¯»çÇÑ ±×¸²À» ±×¸®±â À§ÇÏ¿© »ç¿ëµÇ´Â
½Ã°¢Àû ÀÚ·á »ý¼º ±â±â.
´Ù) plotting[µµÇüÀÛ¼º]-¾î¶² Á¾·ùÀÇ Á¤º¸¸¦ ±×¸²À¸·Î ÀÛ¼ºÇÏ´Â °úÁ¤.
PM(Presentation Manager)
IBM»ç ¹× MICROSOFT»ç¿¡ ÀÇÇØ OS/2¿ëÀ¸·Î °³¹ßµÈ ±×·¡ÇÈ »ç¿ëÀÚ ÀÎÅÍÆäÀ̽º Ç¥ÁØÀÌ´Ù.
PM(Preventive Maintenance)
Àåºñ¼º´ÉÀ¯Áö Â÷¿ø¿¡¼ ¼³ºñ ¹®Á¦ ¹× ¼Õ»ó°¨¼Ò¸¦ À§ÇÏ¿© Manufacturing Operation¿¡¼ RoutineÇϰÔ
Á¡°Ë(»çÀü¿¹¹æÁ¤ºñ).
PMA(Personal Management Analysis) Àλç°ü¸® ºÐ¼®Á¦µµ.
P-MOS ¾çÀüÇÏ Áï Á¤°ø¿¡ ÀÇÇØ Channel Àü·ù°¡ Çü¼ºµÇ´Â MOS Transistor.
PN2(Purified N2) GN2 Gas¸¦ Purifier¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© Á¤Á¦µÈ N2 Gas.
P-N Junction
P-N JunctionÀº PÇü ¿µ¿ª°ú NÇü ¿µ¿ª»çÀÌÀÇ °æ°èºÎºÐ. ÀÌ·¯ÇÑ Junction ±× ÀÚü´Â Á¤·ù±â(Rectifier)
ȤÀº Diode¸¦ ¸¸µé¾î ³¿.
PNPN Diode PNPNÀÇ 4Ãþ ±¸Á¶·Î µÈ Diode.
PNP Type Transistor
PNPÁ¢ÇÕÀÇ ±¸Á¶¸¦ °¡Áö°í ÀÖÀ¸¸ç P,N,P ¿µ¿ªÀ» °¢°¢ ¿¡¹ÌÅÍ, º£À̽º,ÄÝ·ºÅÍ·Î ÇÑ Á¢ÇÕÇü TR¸¦ ¸»ÇÑ´Ù.
P/O(Purchase Order) ±¸¸Å ÁÖ¹®(¹ßÁÖ).
Polarizer
ÀÚ¿¬±¤À» Á÷¼± Æí±¤À¸·Î º¯È½ÃŰ´Â ÇÊÅͷμ, ¿ä¼Ò ¶Ç´Â 2»ö¼º »ö¼Ò·Î ¿°»öÇÑ PVA(Æú¸® ºñ´Ò ¾ËÄÚ¿Ã)
Çʸ§À» ¿¬½Å °¡°øÇÏ¿© TAC(Tri Acetyl Cellulose) Çʸ§ »çÀÌ¿¡ ³ÖÀº ÆÇ.
Polisher
Ãʼø¼ö 2Â÷ ¼³ºñÁßÀÇ Çϳª·Î¼ Ãʼø¼öÁßÀÇ SiO2¸¦ Á¦°ÅÇÏ´Â °ÍÀ» ¸ñÀûÀ¸·Î ÇÏ¸ç ±âŸ ¼öÁßÀÇ À̿¼º
¹°ÁúÀ» Á¦°ÅÇÑ´Ù.
Poly-Crystal(´Ù°áÁ¤)
¹°ÁúÀÌ °áÁ¤ÁúÀÇ °ÍÀÎ °æ¿ì ÇϳªÀÇ µ¢¾î¸®¼Ó¿¡ °áÁ¤ÃàÀÇ È寮·¯ÁüÀÌ Àְųª °áÁ¤Ãà ¹æÇâÀÌ ´Ù¸¥ °ÍÀÌ
Æ÷ÇԵǾî ÀÖ´Â °Í°ú ¹Ì¼¼ÇÑ ´Ü°áÁ¤ÀÇ ¸ðÀÓÀ¸·Î µÇ¾îÀÖ´Â °æ¿ì¸¦ ´Ù°áÁ¤À̶ó°í ÇÑ´Ù.
Poly-Crystal Silicon(´Ù°áÁ¤ ½Ç¸®ÄÜ)
°áÁ¤ Àüü¿¡ °áÃļ ¿øÀÚ ¶Ç´Â ¿øÀÚ Áý´ÜÀÇ Áֱ⼺ÀÌ À¯ÁöµÇ°í ÀÖÀ» ¶§ À̰ÍÀ» ´Ü°áÁ¤(Single Crystal)À̶ó
Çϸç Àüü°¡ ÀÓÀÇÀÇ ¹æÇâÀ» ÇâÇϰí ÀÖÀ» ¶§ À̰ÍÀ» ºñÁ¤Áú ¶Ç´Â ¹«Á¤ÇüÀ̶ó ÇÑ´Ù.
´Ù°áÁ¤Àº ÀÌ Áß°£ÀÇ »óÅÂÀ̸ç ÀÛÀº ´Ü°áÁ¤ÀÌ ºÒ±ÔÄ¢ÇÏ°Ô ¸ðÀÎ °ÍÀÌ´Ù.
Poly-Si
Àå¹üÀ§¿¡¼´Â °áÁ¤¼ºÀÌ ¾øÁö¸¸, ´Ü¹üÀ§¿¡¼´Â °áÁ¤¼ºÀ» °¡Áö°í ÀÖ´Â ½Ç¸®ÄÜ ¹°Áú. °áÁ¤ °æ°è·Î ±¸ºÐµÇ¾î
ÀÖ°í °áÁ¤ °æ°è ³»ºÎ´Â ´Ü°áÁ¤À̸ç ÀÌ·¯ÇÑ °áÁ¤ÀÌ ´Ù¼ö Á¸ÀçÇÑ´Ù.
´Ù°áÁ¤ ½Ç¸®ÄÜ Æ®·£Áö½ºÅÍ´Â ÁÁÀº ½Å·Ú¼º°ú ¾ÈÁ¤¼ºÀ¸·Î ÀÎÇØ ÇÁ·ÎÁ§¼Ç¿ë ȤÀº ¼ÒÇü view finder¿¡ ÀÌ¿ë
µÇ°í ÀÖ´Ù.
Polycide
MOS ±¸Á¶¿¡¼ word line ¹× bit lineÀ¸·Î poly siliconÀÌ»ç¿ëµÉ °æ¿ì ÀúÇ×ÀÌ ³ô¾Æ time delay°¡ ³ô´Ù.
°³¼±Çϱâ À§ÇÏ¿© polysiliconÀ§¿¡ silicide 2Ãþ ±¸Á¶¸¦ Çü¼ºÇÏ¿© speedÀÇ °³¼±À» ¸ñÀûÀ¸·Î ÇÏ´Â ±¸Á¶¸¦
polycide¶ó ÇÑ´Ù.
Polyimide ÀÌ ¸·Àº ·¯ºù(rubbing) °øÁ¤À» ÅëÇØ ¹èÇâÇÔÀ¸·Î½á ¾×Á¤ÀÌ ÀÏÁ¤ÇÑ ¹æÇâÀ¸·Î ¹è¿ÇÏ°Ô ÇÑ´Ù.
Polymer
Á¾ÇÕü.¼öõ°³ ÀÌ»óÀÇ ´Ü·®Ã¼(Monomer)µéÀÌ ¼·Î °áÇյǾî(Polymerization) ÀÌ·ç¾îÁø °íºÐÀÚ È¥ÇÕ¹°.
POP ±¤°í(Point of Purchase Advertisement) ±¸¸Å½ÃÁ¡ ±¤°í.
Population ¸ðÁý´Ü. °ü½ÉÀÇ ´ë»óÀÌ µÇ´Â ¹°ÁúÀÇ ÃÑ itemÀ̳ª units.
POS(Point of Sales) ¼öÆÛ¸¶ÄÏÀÇ Registor¿Í °°Àº ÆÇ¸Å½ÃÁ¡ Á¤º¸¸¦ ÀÔ·ÂÇÏ´Â ½Ã½ºÅÛ.
POS System(Point of Sales) ÆÇ¸Å½ÃÁ¡ Á¤º¸°ü¸® ½Ã½ºÅÛ.
Positive LCD LCD¿¡¼ normally white¶ó°íµµ Çϸç Èò¹ÙÅÁ¿¡ °ËÀº¹®ÀÚ°¡ ³ªÅ¸³´Ù.
POST(Power On Self Test)
PC Àü¿øÀ» ÄÑÀÚ¸¶ÀÚ ½ÃÀ۵Ǵ °ÍÀ¸·Î CPU°¡ Á¦´ë·Î µ¿ÀÛÇÏ´ÂÁö System Boaard Memory¿Í ½Ã½ºÅÛ
¹ö½ººÎºÐµµ ÇÔ²² °Ë»çÇÏ´Â ±âº» ½Ã½ºÅÛ TestÀÌ´Ù.
Post Burn-in Burn-In ÈÄ¿¡ °Ë»çÇÏ´Â °Í.
Post Laser Repair Test
Laser Repair ¼öÇàÈÄ wafer chipÀÇ pass/fail ¹× laser repair ¼º°ø¿©ºÎ¸¦ ÆÇº°ÇÏ´Â Àü±âÀû ¼º´É °Ë»ç¹ý.
Pot ¼ºÇü ±ÝÇü ³»¿¡ ÇÕ¼º ¼öÁö¸¦ ÅõÀÔ½ÃŰ´Â ÀÔ±¸.
Power Managemant
CPU³ª Coprocesor,±âŸ ÁÖº¯ÀåÄ¡ÀÇ ¼Ò¸ð Àü·ÂÀ» ÁÙÀÌ´Â ¹æ¹ýÀ¸·Î System ClockÀÇ µ¿ÀÛÀ» Stop½ÃÄÑ
¼Ò¸ðÀü·ÂÀ» ÁÙÀÓÀ¸·Î½á Battery ¼ö¸íÀ» ¿¬Àå½Ãų ¼ö ÀÖ´Ù.
ÀÏÁ¤½Ã°£µ¿¾È ¿ÜºÎ InputÀÌ ¾øÀ¸¸ç Display Power µî °¢Á¾ Power ¸ð¿øÀÇ Àü·ÂÀ» ÁÙÀϼö ÀÖ¾î Lap Top,
Notebook PC¿¡ Àû¿ëÇϰí ÀÖ´Ù.
PP Carrier
Poly Propylene ÀçÁú·Î µÇ¾î ÀÖÀ¸¸ç û»ö, ÁÖȲ»ö µîÀÌ ÀÖ´Ù. Ȱø¾àǰ¿¡ °Çϳª ¿¿¡ ¾àÇÏ´Ù.
PPB(Parts Per Billion) PPMÀÇ 1õºÐÀÇ 1,Áï 10¾ïºÐÀÇ 1À» ³ªÅ¸³»´Â ´ÜÀ§.
PPM(Parts Per Milion) ºÒ·® ÃøÁ¤ ´ÜÀ§,¹é¸¸ºÐÀÇ 1´ÜÀ§.
PR(Purchasing Requisition) ±¸¸Å ½Åû¼.
PR(Photo Resist)
°¨±¤¼º °íºÐÀڷμ ³ë±¤°øÁ¤½Ã ºûÀ» ¹ÞÀº ºÎºÐÀÌ ±¤¹ÝÀÀÀ» ÇÏ¿© Çö»ó°øÁ¤ ÈÄ patternÀ» Çü¼ºÇÑ´Ù.
±¤ °¨ÀÀÁ¦°¡ ¼¯¿© ÀÖ´Â À¯±â ÈÇÕ¹°·Î ºû¿¡ ÀÇÇØ ÀÚü³»¿¡¼ ÈÇÐ ¹ÝÀÀÀÌ ÀϾ ÈÇÐÀû ±¸Á¶°¡
º¯ÇÏ¿© Çö»ó¾×¿¡ ÀÇÇØ ÀÏÁ¤ patternÀÌ Çü¼ºµÇµµ·Ï ÇÏ´Â ¹°Áú. IC Á¦ÀÛ °øÁ¤Áß photo °øÁ¤¿¡¼ »ç¿ë
ÇÏ´Â ÈÇй°Áú·Î Etch °øÁ¤À» Çϱâ Àü¿¡ Etch ÇÒ Áö¿ªÀ» Ç¥½ÃÇϱâ À§ÇØ Wafer Ç¥¸é¿¡ ±ÕÀÏÇϰÔ
µµÆ÷ÇÏ´Â ¹°ÁúÀÌ´Ù.
ÀÌ ¹°ÁúÀº Positive TypeÀǰæ¿ì ºûÀ» ¹ÞÀ¸¸é ±× ºÎºÐÀº ºû°ú ¹ÝÀÀÇÏ¿© °¨±¤µÇ¾î Devlop½Ã ¾ø¾îÁö
°í ºûÀ» ¹ÞÁö ¾ÊÀº ºÎºÐÀº ±× ´ë·Î ³²¾Æ¼ Etch¸¦ ÁøÇàÇϸé PRÀÌ ¾ø´Â ºÎºÐÀÌ ½Ä°¢µÈ´Ù.
Pre Burn-in Burn-In¿¡ µé¾î°¡±â Àü¿¡ °Ë»çÇÏ´Â °Í.
Precipitate
ÀÏÁ¤ÇؾßÇÒ Áö¿ª¿¡(ºÒ¼ø¹°³óµµ µî),FAB Á¦Á¶ °øÁ¤Áß ¾î¶°ÇÑ ÀÌÀ¯·Î ÇÙÀ» Áß½ÉÀ¸·Î ¸ðÀÌ´Â Çö»ó.
Precision
ÃøÁ¤¿¡¼ÀÇ ÀçÇö¼ºÀÌ ¾ó¸¶³ª ÁÁÀº°¡¸¦ ³ªÅ¸³»¸ç µ¿ÀÏÇÑ ÃøÁ¤À» ¿©·¯¹ø ÇßÀ» ¶§ ¾ó¸¶¸¸Å ±×
ÃøÁ¤°ªµéÀÌ ¼·Î ÀÏÄ¡ÇÏ´Â °¡¸¦ °¡¸®Å°´Â ôµµ°¡ µÊ.
Precision measurement Instrument
»ê¾÷ü ¹× ½ÃÇè°Ë»ç ±â°ü¿¡¼ Á¤¹Ð ÃøÁ¤ ¹× ½ÃÇè°Ë»ç¿¡ »ç¿ëÇÏ´Â ±â±â.
Preform ¿¹ºñ ¼ºÇü.
Preformer ¿¹ºñ ¼ºÇü±â.
Preform Feeder
¸± »óÅ·Π°¨°Ü ÀÖ´Â ³³ PreformÀ» ÀÏÁ¤ÇÑ ±æÀÌ·Î Àß¶ó¼ Lead Frame À§¿¡ Á¢Âø½ÃŰ´Â ÀåÄ¡·Î¼,
¹Ý½Ã°è ¹æÇâÀ¸·Î ȯ¿ø.
Preheater
°íÁ֯ď¦ »ç¿ëÇÏ¿© Peller ÇüÅÂÀÇ ¼öÁö¸¦ ¸»¶û¸»¶ûÇÑ »óÅ·Π¸¸µé¾î ÁÖ¹Ç·Î½á °æÈ ½Ã°£À» ´ÜÃà½Ã۰í
°æÈ Ư¼ºÀ» Çâ»ó½Ã۸ç À̼۽ļºÇüÀ» ¿ëÀÌÇÏ°Ô ÇÏ´Â ÀåÄ¡.
Prelaser Repair Test
°øÀåÀÌ ÁøÇàµÇ¾îÁø waferÀÇ laser repair ¼öÇà Àü wafer chipÀÇ pass/fail/repairableÀ» ±¸ºÐÇÏ´Â Àü±âÀû
¼º´É °Ë»ç.
Pretilt Angle
À¯¸® ±âÆÇ Ç¥¸é¿¡ ´ëÇÑ ¾×Á¤ºÐÀÚ ÀåÃàÀÇ °æ»ç°¢µµ.¹èÇ⸷ÀÇ ·¯ºù󸮿¡ ÀÇÇØ »ý±â¸ç Reverse tilt domain
»ý¼º¹æÁö¸¦ À§ÇØ ÇàÇÑ´Ù.
Prepreg ´ÙÃþ±âÆÇ¿¡¼ °¢ ÃþÀ» Á¢Âø½ÃŰ´Â Á¢ÂøÁ¦(B-STAGE).
Price Learning Curve
±âÁ¸ÀÇ ÇнÀ°î¼±ÀÇ °³³äÀ» ¹ÝµµÃ¼ ¸Þ¸ð¸®ÀÇ °¡°Ýº¯È¿¡ Àû¿ëÇÑ °Í.ÀÌ °æ¿ì °¡°ÝÀº ½ÃÀå°æÀï,±â¼ú´ëü,
ÀÏ¹Ý °æÁ¦»óȲ,¼ö¿ä ¹× °ø±ÞÀÇ ¿ªµ¿¼º µîÀÇ ½ÃÀåÁ¶°Ç¿¡ Å©°Ô ¿µÇâÀ» ¹Þ´Â´Ù.
°¡°ÝÀº Bit´ç Millicent·Î Ç¥½Ã.
Priming pump¸¦ ½Ãµ¿ÇϱâÀü ÈíÀÔ°ü³»¿¡ ¹°À» Ãæ¸¸½ÃŰ´Â °Í.
PRN(Process Revision Notice)
½ÇÇè°á°ú¿¡ ÀǰÅÇÏ¿© ±âÁ¸ÀÇ °øÁ¤ÀÇ Á¶°Ç, ¼ø¼,ÀÚÀç,Àåºñ µîÀ» º¯°æ º¸¿ÏÇÒ ¶§ »ç¿ëÇÏ´Â ¾ç½Ä.
Probe Card
Wafer³»ÀÇ ChipÀÇ Àü±âÀû µ¿ÀÛ»óŸ¦ °Ë»çÇϱâ À§ÇØ Probe TipÀ» ÀÏÁ¤ÇÑ ±Ô°ÝÀÇ È¸·Î ±âÆÇ¿¡ ºÎÂøÇÑ Ä«µå.
Probe Tip
ChipÀ» TestÇϱâ À§ÇØ ÅÖ½ºÅÙ ÀçÁú·Î ¸¸µç PinÀ¸·Î Chip³»ÀÇ Pad¸¦ ÅëÇÑ Chipȸ·Î¿Í °Ë»çÀåºñ¿ÍÀÇ
¿¬°áºÎºÐ.
Prober Test
Àåºñ¿Í Àü±âÀû ½ÅÈ£¸¦ ÁÖ°í¹ÞÀ» ¼ö ÀÖµµ·Ï ¿¬°áµÇ¾î ÀÖÀ¸¸ç Wafer¸¦ X, Y, ZÃàÀ¸·Î ¿òÁ÷¿© °¢ ĨÀ»
ROOM/HOT Temperature »óÅ¿¡¼ Wafer³»ÀÇ ÁöÁ¤µÈ point¾Æ ŽħÀ» Á¢Ã˽ÃÄÑ TestÇϴµ¥
»ç¿ëµÇ´Â ÀåºñÀÓ.
Probing ÃøÁ¤À» À§ÇÏ¿© ¸¸µé¾î ³õÀº PAD¿¡ Probe TipÀ» Á¤È®ÇÏ°Ô Contact½ÃŰ´Â °Í.
Process
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶±â¼ú¿¡ ÀÖ¾î¼ Àç·á¿¡¼ Á¦Ç°±îÁöÀÇ Áß°£´Ü°èÀÇ ±â¼úÀ» ÃÑĪÇÏ¿© Process¶ó°í ÇÑ´Ù.
Process Capability
°øÁ¤´É·Â. Á¤»óÀûÀΠȯ°æ¿äÀο¡ ÀÇÇØ¼¸¸ Áö¹èµÇ´Â ÃÖ¼ÒÇÑÀÇ º¯µ¿¿äÀÎ ¾Æ·¡ °øÁ¤ÀÛ¾÷ ¹üÀ§ÀÇ ÇѰè.
Process Minispec.
°øÁ¤°³¹ß½Ç¿¡¼ base line °øÁ¤ÀÌ È®Á¤µÇ¾î FAB ¿î¿µ½Ç·Î À̰üµÉ ¶§¿¡ ÀÛ¼ºµÇ´Â ½ºÆåÀ¸·Î¼ °¢ °øÁ¤
ÁøÇà½ÃÀÇ ÀÛ¾÷¼ø¼,ÀÛ¾÷Á¶°Ç,ÀÛ¾÷°á°úÀÇ È®ÀαâÁØÀ» ¸í½ÃÇÑ ÇØ´ç °øÁ¤ÀÇ ±â¼ú Ç¥ÁØ.
Profile
ÁöÁ¤µÈ °øÁ¤¿¡¼ÀÇ ÇÊ¿ä ¿Âµµ¸¦ Àåºñ³»¿¡ ¿ÀÂ÷¾øÀÌ ÀԷ½ÃŰ´Â ÀÏ·ÃÀÇ ÀÛ¾÷À¸·Î½á È®»ê°øÁ¤¿¡ ¾²ÀÓ.
Program
Test ProgramÀ» ÁöĪÇÏ´Â ¸»·Î½á °¢ Tester¿¡ ¾Ë¸Â´Â Computer Language·Î ÀÛ¼ºÇÑ SoftwareÀÓ.
ÀÌ ProgramÀÇ °ÇÀº Test Spec.¿¡¼ Á¤ÇÑ Limit¸¦ »ç¿ëÇÔ.
PROM(Programmable Read Only Memory)
ROMÀÇ ÀÏÁ¾À¸·Î Á¦Á¶µÈ ÈÄ »ç¿ëÀÚ°¡ ÀÓÀÇ·Î ProgramÀ» ÇÏ¿© ¿øÇÏ´Â Á¤º¸¸¦ ³ÖÀ»¼ö ÀÖ´Â ±â¾ïÀåÄ¡.
Propagation Time(ÀüÆÄ½Ã°£) ³í¸®È¸·Î¿¡ ÀÖ¾î¼ ³í¸®ÀÇ Áö¿¬À» ÀüÆÄ½Ã°£À̶ó°í ÇÑ´Ù.
Protected Mode
Protected Mode¿¡¼´Â CPU´Â 24bit Physical Address¸¦ GenerateÇÏ¸ç ¹°¸®Àû Memory °ø°£À»
AddressingÇÒ¼ö ÀÖ´Ù.
80286 CPU´Â Protected Mode¿Í Real Mode¿¡¼ µ¿À۵ȴÙ.
Extended Memory´Â Protected Mode¿¡¼ Áö¿øµÈ´Ù.
Proto Type
±æÀÌ, Áú·®,½Ã°£,Àü·ù,¿Âµµ,±¤¹°,¹° µî 7°³ ±âº»´ÜÀ§ÀÇ Çö½Ã¿ë
±¹°¡ Ç¥ÁØ(National primary Standard)À» ¸»ÇÔ.
Proximity Effect
PatternÀÌ Á¶¹ÐÇÑ Áö¿ª°ú ¹Ðµµ°¡ ¾ÆÁÖ ³·Àº Áö¿ª°úÀÇ °æ°è¸é¿¡¼ Etch ¼ÓµµÀÇ Â÷À̰¡ ³ª´Â °ÍÀ» ¸»ÇÑ´Ù.
PRS(Pattern Recognition System)
ChipÀÇ Al°ú SiÀÇ 2ºÎºÐÀ» Ȥ(Si),¹é(Al)À¸·Î ã¾Æ¼ À§Ä¡¸¦ ÀÏÁ¤ÇÏ°Ô Àâ¾Æ ÁÖ´Â ¹æ½Ä.
PRT(Production Realiablility Test)
°øÁ¤½Å·Ú¼º ½ÃÇèÀ¸·Î¼ ¾ç»êÁßÀÎ Á¦Ç°¿¡ ´ëÇÑ Ç°Áú È®Àΰ˻ç(Quality Conformance Test)¸¦ ¸»ÇÔ.
P/S(Prober Station) Wafer¸¦ °Ë»çÇϱâ À§ÇØ Å×½ºÅÍ¿Í ¿¬°áµÈ ¼³ºñÀÌ´Ù.
PSG(Phospho-Silicate-Glass)
ÀαԻê À¯¸®. »êȸ·¿¡ Phosphorous°¡ ÷°¡µÈ °ÍÀ¸·Î Àý¿¬Æ¯¼ºÀÌ ¾çÈ£ÇÏ¸ç ³·Àº ¿Âµµ¿¡¼ Reflow
µÇ´Â Ư¼ºÀ» °®´Â ¹°Áú·Î¼, ¹ÝµµÃ¼ Ç¥¸éÀÇ ¾ÈÁ¤È µî¿¡ »ç¿ë.
PSRAM(pseudo SRAM)
DRAMÀÇ ÀåÁ¡ÀÎ µ¿ÀϸéÀû¿¡ ÀÖ¾î¼ ±â¾ï¿ë·®ÀÇ ±Ø´ëÈ¿Í SRAMÀÇ ÀåÁ¡ÀÎ Refresh ºÒÇʿ伺À» °áÇÕ½ÃŲ
°ÍÀ¸·Î DRAMÀÇ ÀåÁ¡°ú SRAMÀÇ ÀåÁ¡À» °áÇÕ½ÃŲ ±â¾ï¼ÒÀÚ.
P-type
N-type¿¡ ´ëÀÀµÇ´Â °ÍÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼ Àç·á¿¡¼ Àü·ùÀÇ È帧À» Çü¼ºÇÏ´Â Á¤°øÀÇ ¹Ðµµ°¡ ÀüÀÚÀÇ ¹Ðµµº¸´Ù
ÈξÀ Å©µµ·Ï 3°¡ÀÇ ºÒ¼ø¹° ¿ø¼Ò¸¦ ÁÖÀÔÇÑ ¹ÝµµÃ¼ÀÇ Æ¯¼º.
P type semiconductor
¹ÝµµÃ¼¿¡¼ Àü±â Àüµµ¿¡ ±â¿©Çϴ ij¸®¾î°¡ Á¤°øÀÌ ÁÖü°¡ µÇ´Â ¹ÝµµÃ¼¸¦ PÇü ¹ÝµµÃ¼¶ó°í ÇÔ.
Pulse Heating
ÄܽºÅºµå È÷ÆÃ¿¡ ¹Ý´ëµÇ´Â °³³äÀ¸·Î Áö¼Ó ½Ã°£ÀÌ ÂªÀº Àü·ù¸¦ º»µù ÆÁ¿¡ Èê·Á ¼ø°£ÀûÀ¸·Î ¿À» ¹ß»ý½Ã۰í
Àü·ù¸¦ Â÷´ÜÇÏ¸é µ¿½Ã¿¡ ¿µµ Â÷´ÜµÇ´Â °Í.
Pull strategy
Á¦Á¶±â¾÷ÀÌ ¼ÒºñÀÚ¿¡ ´ëÇÏ¿© Á¦Ç°À̳ª »óÇ¥¿¡ ´ëÇÑ ±¤°í¸¦ ÃæºÐÈ÷ ÇÏ¿© ¼ÒºñÀÚÀÇ ¼ö¿ä°¡ ȯ±âµÇµµ·Ï
Ã˱¸ÇÔÀ¸·Î½á ¼ÒºñÀÚ·Î ÇÏ¿©±Ý Á¦Ç°À» ÆÇ¸ÅÇϰí ÀÖ´Â »óÁ¡¿¡ °¡¼ ÀÚ»ç»óǥǰÀ» Áö¸í±¸¸ÅÇϵµ·Ï
ÇÏ·Á´Â Àü·«.
Pulse Á÷·ùµµ Á¤ÇöÆÄµµ ¾Æ´Ñ,Áö¼Ó±â°£ÀÌ ÂªÀº ´Ü¼ÓµÈ Àü·ù Ãæ°ÝÆÄ¶ó°íµµ ÇÑ´Ù.
Punch Die
¼ºÇü ÀÛ¾÷ÀÌ ¿Ï·áµÈ ÀÚÀçÀÇ ¸®µå¿Í ¸®µå»çÀÌ¿¡ ¿¬°áµÈ ´ï¹ö ºÎºÐÀ» ÀÏÁ¤ÇÑ ÈûÀ» °¡ÇØ ÀÚ¸£´Â Á¤¹Ð °¡°øµÈ
ºÎǰ.
Puntch-Through
MOSÀÇ Source¿Í Drain°£ÀÇ °ÇÑ electric field¿¡ ÀÇÇÏ¿© Drift¼ºÀÇ Àü·ù°¡ ¾ß±âµÇ´Â Çö»ó.
Punch-Through Breakdown
Source/Drain Junction depletion regionÀÌ ¸¸³ª¸é¼ »ý±â´Â breakdownÇö»óÀ¸·Î substrate ³óµµ°¡
³·°Å³ª,¶Ç´Â short channelÀÏ °æ¿ì µÎ junctionÀÇ depletionÀÌ ¸¸³ª¸é¼ source-drain »çÀÌ¿¡ °©ÀÚ±â
¸¹Àº Àü·ù°¡ È帣´Â Çö»óÀ» ¸»ÇÑ´Ù.
Åë»ó, scaling downÀÇ °¡Àå Å« °É¸²µ¹ÀÌ µÇ°í ÀÖÀ¸¸ç,LDD(Lightly Doped Drain) ±¸Á¶¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿©
BreakdownƯ¼ºÀ» º¸¿ÏÇϰí ÀÖ´Ù.
Push Stategy
Á¦Á¶±â¾÷ÀÌ ¼ÒºñÀÚ±¤°íµî¿¡´Â ÁÖ·ÂÇÏÁö ¾Ê°í ÆÇ¸Å¿øÀÇ ÀÎÀû ÆÇ¸ÅȰµ¿À» Áß½ÉÀ¸·Î ÆÇ¸Å°æ·Î»óÀÇ °Å·¡Á¡À»
ÅëÇØ Á¦Ç°À» ÆÇ¸ÅÇÏ·Á´Â Àü·«.
Purge(Á¤È, Ãß¹æ) N2 GAS¸¦ ºÒ¾î ³Ö¾î ÁÜÀ¸·Î½á GAS Â±â³ª ¿ë¾× Â±â¸¦ »©³»´Â °ÍÀ» ¸»ÇÔ.
PV(Process Vacuum)
°øÁ¤¿ë Áø°øÀ¸·Î Áø°ø Pump¿¡¼ »ý»êµÇ¾î ¶óÀÎÀ¸·Î °ø±ÞµÈ´Ù.
»ý»êÀåºñ¿¡¼ ¿þÀÌÆÛÀÇ °íÁ¤°ú À̼ۿëÀ» »ç¿ëµÊ.
PVD(Physical Vapour Deposition)
CVD¿¡ ´ëºñÇÏ¿© ¾²ÀÌ´Â ¸»·Î½á ½ºÆÛÅ͸µ,ÁõÂø µîÀÇ ¹°¸®ÀûÀÎ ¹Ú¸· ÁõÂø±â¼úÀ» ÃÑĪÇÏ´Â °ÍÀÓ.
PW(Polished Wafer) ¿¬¸¶ °¡°øµÈ ¿þÀÌÆÛ.
PWB(Àμâ¹è¼±ÆÇ) (Printed Wiring Board)
ȸ·Î ºÎǰÀ» Á¢¼ÓÇÏ´Â Àü±â ¹è¼±À» ȸ·Î ¼³°è¿¡ ÀÔ°¢ÇÏ¿© ¹è¼±µµÇüÀ¸·Î Ç¥ÇöÇϰí
À̰ÍÀ» ¾ÖĪ µîÀÇ ±â¼ú¿¡ ÀÇÇØ µ¿¹Ú ÀûÃþÆÇ(Copper Clad Laminate)À§¿¡ µ¿¹ÚÀÇ ¹è¼±µ¿ÇüÀ¸·Î¼
¿Ï¼º½ÃŲ ÆÇÀ¸·Î ¹è¼±°ú ºÎǰ ÀåÂøÀÇ µÎ ±â´ÉÀ» °âºñÇϰí ÀÖ´Â °Í.
PWL(Pulsed Word Line)
ICC¸¦ ÁÙÀ̱â À§ÇØ reading½Ã word lineÀÇ signalÀ» pulse ÇüÅ·ΠcontrolÇÏ°Ô ¼³°èÇÑ circuit°³³äÀÌ´Ù.
|